TESCAN představuje první kombinovaný FIB-SEM s plazmovým zdrojem iontů

5 nejnovějších poptávek

Nákup ochranných prostředků
Oprava podlahové krytiny
Nákup kompresorů a příslušenství
Stavební práce - hrubá stavba
Stavební práce - přístřešek pro dvě auta

Další poptávky

5 nejnovějších nabídek

OHÝBAČKA BETONÁŘSKÉ OCELI - SPECIAL 55S
Brusky hrotové - BU 16, výrobce TOS
Použité oktabíny k prodeji
Svařovací invertor pro svařování metodou MMA a TIG.
Opravy nástrojů

Další nabídky

TESCAN představuje první kombinovaný FIB-SEM s plazmovým zdrojem iontů

04/10/2011

Akciová společnost TESCAN, světový výrobce a dodavatel systémů a řešení v oblasti elektronové mikroskopie, uvádí na trh technickou novinku - systém FERA3. Jedná se o vysokorozlišovací rastrovací elektronový mikroskop se Schottkyho katodou vybavený fokusovaným iontovým svazkem (Focused Ion Beam - FIB) s plazmovým zdrojem iontů. Systém byl vyvinut a postaven ve spolupráci s francouzskou firmou Orsay Physics, se kterou společnost TESCAN spolupracuje již několik let. Kromě elektronového a iontového tubusu může být přístroj vybaven systémem pro vstřikování plynů, nanomanipulátory, detektory různých produktů interakce, jako jsou sekundární a zpětně odražené elektrony, sekundární ionty charakterizující rentgenové záření, katodoluminiscence a další. Zdrojem iontů pro fokusovaný iontový svazek je plazma xenonu.(iluobr. Tescan - MIRA3)

"Systémy tohoto charakteru jsou žádané například v polovodičovém průmyslu pro zjišťování vad při výrobě integrovaných obvodů nebo pro 3D metrologii a podobně,“ informuje Hana Glatzová, obchodní ředitelka společnosti TESCAN. "V porovnání s dosud běžnými technologiemi FIB je produktivita odprašování materiálů u tohoto nového systému více než třicetkrát vyšší. Proto je vhodný pro rychlé odprašování velkých objemů. Zájem je velký, první systém bude dodán již letos do MiQro Innovation Collaborative Centre (C2MI) v Kanadě, kde bude sloužit ke kontrole zapouzdření integrovaných obvodů,“
dodává Hana Glatzová.