TESCAN představuje první kombinovaný FIB-SEM s plazmovým zdrojem iontů

5 latest demands

Poptávka - položení dlažby
Poptávka - natření střechy
Nákup ochranných prostředků
Oprava podlahové krytiny
Nákup kompresorů a příslušenství

Other demands

5 latest offers

Frézky nástrojářské - FN 32, výrobce TOS
Frézky nástrojářské - FNGP 40 CNC, výrobce INTOS
Soustruhy CNC - Masturn 50 CNC, výrobce MAS
Lisy hydraulické - P6381, výrobce Stanko SSSR
Soustruhy hrotové - SU 100/2000

Other offers

TESCAN představuje první kombinovaný FIB-SEM s plazmovým zdrojem iontů

04/10/2011

Akciová společnost TESCAN, světový výrobce a dodavatel systémů a řešení v oblasti elektronové mikroskopie, uvádí na trh technickou novinku - systém FERA3. Jedná se o vysokorozlišovací rastrovací elektronový mikroskop se Schottkyho katodou vybavený fokusovaným iontovým svazkem (Focused Ion Beam - FIB) s plazmovým zdrojem iontů. Systém byl vyvinut a postaven ve spolupráci s francouzskou firmou Orsay Physics, se kterou společnost TESCAN spolupracuje již několik let. Kromě elektronového a iontového tubusu může být přístroj vybaven systémem pro vstřikování plynů, nanomanipulátory, detektory různých produktů interakce, jako jsou sekundární a zpětně odražené elektrony, sekundární ionty charakterizující rentgenové záření, katodoluminiscence a další. Zdrojem iontů pro fokusovaný iontový svazek je plazma xenonu.(iluobr. Tescan - MIRA3)

"Systémy tohoto charakteru jsou žádané například v polovodičovém průmyslu pro zjišťování vad při výrobě integrovaných obvodů nebo pro 3D metrologii a podobně,“ informuje Hana Glatzová, obchodní ředitelka společnosti TESCAN. "V porovnání s dosud běžnými technologiemi FIB je produktivita odprašování materiálů u tohoto nového systému více než třicetkrát vyšší. Proto je vhodný pro rychlé odprašování velkých objemů. Zájem je velký, první systém bude dodán již letos do MiQro Innovation Collaborative Centre (C2MI) v Kanadě, kde bude sloužit ke kontrole zapouzdření integrovaných obvodů,“
dodává Hana Glatzová.